फोटोवोल्टिक उत्पादन के लिए ग्रेफाइट फर्नेस हीटर

उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट (शुद्धता 99.95% से अधिक या उसके बराबर) और कार्बन फाइबर मिश्रित प्रक्रिया का उपयोग करते हुए, तापमान प्रतिरोध सीमा -200 डिग्री से 3000 डिग्री है, और गर्मी चालकता दक्षता 30% बढ़ जाती है, जिससे सिलिकॉन पिघल का एक समान ताप सुनिश्चित होता है और जाली दोष कम हो जाते हैं (0.3% से कम या उसके बराबर)।

ISO 14001 पर्यावरण मानकों के अनुरूप, EU REACH मानक द्वारा प्रमाणित, जिसमें कोई भारी धातु अवशेष (50ppm से कम या उसके बराबर सीसा) नहीं है; बड़े पैमाने पर उत्पादन तकनीक लागत को 40% कम कर देती है (पारंपरिक हीटरों की तुलना में), जिससे ग्राहक निवेश कम हो जाता है।

फ्लोट{0}ज़ोन विधि (सीजेड) और ज़ोन मेल्टिंग विधि (जेडसी) के साथ संगत, बड़े आकार के सिलिकॉन सिल्लियों (300 मिमी से अधिक या उसके बराबर व्यास) के उत्पादन का समर्थन करता है, क्रिस्टल विकास चक्र को 15% तक छोटा करता है और फोटोवोल्टिक कोशिकाओं की रूपांतरण दक्षता में सुधार करता है।

उच्च तापमान हीटिंग के लिए मुख्य घटक के रूप में, इसका उपयोग फोटोवोल्टिक सिलिकॉन वेफर्स के पिघलने और शुद्धिकरण के लिए किया जाता है, जिससे बड़े आकार के सिलिकॉन सिल्लियों की एकरूपता और स्थिरता सुनिश्चित होती है।

प्रतिक्रिया कक्ष की हीटिंग प्रणाली के रूप में, यह उच्च तापमान ऑक्सीकरण और संक्षारण के लिए प्रतिरोधी है, अर्धचालक सामग्री संश्लेषण के लिए उपयुक्त है, और उपकरण रखरखाव की आवृत्ति को कम करता है।

धातुकर्म, चीनी मिट्टी की चीज़ें और अन्य क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है, यह एक स्थिर ताप स्रोत प्रदान करता है, उपकरण का जीवनकाल बढ़ाता है, और उत्पादन क्षमता में सुधार करता है।